manbetx网页登录入口 48， 00023 (2013)
https://doi.org/10.1051/epjconf/20134800023

利用矩阵激光光刻技术制作衍射元件

布拉格捷克技术大学，核科学与物理工程系，物理电子系，Břehová 7, 115 19布拉格1，捷克共和国

^一个电子邮件:marek.skeren@fjfi.cvut.cz

摘要

本文提出了一种基于记录材料的计算机驱动矩阵曝光的衍射和光子结构激光刻写技术。与常用的激光书写技术相比，它在单个曝光步骤中曝光了相对较大的面积，这保证了书写过程的高速。暴露的微结构从计算机驱动的高分辨率空间光调制器投射到具有强退磁的记录材料上。机械被动投影确保了书写过程的高精度，这仅受瑞利衍射极限的限制。当使用同一区域的多次曝光时，可以制备复杂的微结构。在所述基础上构造的装置将与使用该技术制备的不同样品一起展示。还将提到元素的选定应用。